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Fraunhofer-Institut für Photonische Mikrosysteme IPMS

Fraunhofer-Institut für Photonische Mikrosysteme IPMS

Fraunhofer-Institut für Photonische Mikrosysteme IPMS

Geschäftsfelder:
  • Kommunikation
  • Automobilindustrie
  • Elektronik
  • Halbleiterindustrie
  • Medizintechnik / Pharma
  • Hardware
Kernkompetenz:
  • Forschung und Bildung: Institute
Spezialisierung:
  • Foundry-Service
  • MEMS
  • Sensorik
  • ASIC Design
  • Lichtmodulatoren/Scanner
  • Entwicklungspartner

Flächenlichtmodulator für Direct Imaging
Flächenlichtmodulator für Direct Imaging
Das Fraunhofer IPMS mit seinen 290 Mitarbeiterinnen und Mitarbeitern steht für angewandte Forschung und Entwicklung auf internationalem Spitzenniveau in den Bereichen Photonische Mikrosysteme, Mikrosystemtechnologien, Nanoelektronische Technologien und Drahtlose Mikrosysteme. In allen großen Märkten – wie Informations- und Kommunikationstechnologien, Konsumgüter, Fahrzeugtechnik, Halbleiter, Mess- und Medizintechnik – finden sich innovative Prozesse und Produkte, die unsere Technologien nutzen. Die Hälfte unseres jährlichen Forschungsbudgets von 33 Millionen Euro wird durch Aufträge aus der privaten Wirtschaft finanziert.

Quasi-statischer Scannerspiegel
Quasi-statischer Scannerspiegel
Auf dem Gebiet der mikromechanischen und photonischen Mikrosysteme bieten wir Komplettlösungen vom Konzept über das Bauelement bis zum kompletten System an. Dies schließt Muster- und Pilotfertigung im eigenen 1500 m² (15 000 ft²) Reinraum (Klasse 4 nach ISO 14644-1) mit qualifizierten Prozessen ein. Um den Erwartungen unserer Kunden zu genügen, ist unser Haus für Forschung, Entwicklung und Fertigung, den entsprechenden Halbleiter- und Mikrosystemprozessen, integrierte Aktorik / Sensorik und Beratung von der DEKRA nach der Norm DIN EN 9001:2008 zertifiziert.

300mm Test-Wafer
300mm Test-Wafer
Mit dem Geschäftsfeld Center Nanoelectronic Technologies CNT stellen wir seit 2013 außerdem Leistungen in den Bereichen der Nano- und Mikroelektronik mit funktionalen elektronischen Materialien, Prozessen und Anlagen, Device & Integration, maskenloser Lithographie sowie Analytik bereit. Dafür stehen weitere 800 m² Reinraum (Klasse 6 nach ISO 14644-1) sowie Analyse- und Metrologieverfahren mit atomarer Auflösung und hoher Sensitivität zur Verfügung.

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